• 中文
    • English
  • 中文 
    • 中文
    • English
  • 登录
浏览条目 
  •   首页
  • 电化学
  • 2002年第8卷
  • 浏览条目
  •   首页
  • 电化学
  • 2002年第8卷
  • 浏览条目
JavaScript is disabled for your browser. Some features of this site may not work without it.

预处理对多孔硅形成过程的影响(英文)
Effect of Precondition on Porous Silicon Formation

Thumbnail
全文浏览
预处理对多孔硅形成过程的影响(英文).pdf (295.1Kb)
发布日期
2002-05-28
作者
程璇
罗广丰
CHENG Xuan
LUO Guang_feng
所在专题
  • 2002年第8卷 [72]
显示详细条目
摘要
本工作初步探讨了开路电位下对硅片进行预处理时多孔硅的形成过程 .电化学极化实验、扫描电镜和拉曼谱学的研究表明 ,预处理可以加速硅 /溶液界面上的化学或电化学反应 ,从而加快多孔硅的生长过程 ,最终导致光致发光的光谱红移 .多孔硅的厚度随预处理时间的增长而减小
 
In this work, effect of precondition on porous silicon formation was investigated by performing electrochemical polarization measurements. The surface morphologies and optical properties of the samples were also studied by scanning electron microscopy (SEM) and Raman spectrometer. It was demonstrated that precondition enhanced the chemical/electrochemical reactions occurred at Si/solution interface and the growth of porous silicon, which ultimately resulted in a red shift in photoluminescence. However, the thickness of porous silicon decreased with the increase of precondition time. More broad bands were observed with prolonged precondition.
 
出处
电化学,2002,8(02):134-138.
本条目访问地址(URI)
https://dspace.xmu.edu.cn/handle/2288/57680

copyright © 2002-2016  Duraspace  Theme by @mire  厦门大学图书馆  
关于我们 | 相关政策
 

 

浏览方式

全部社群发布日期作者题名主题该专题发布日期作者题名主题

我的账号

登录注册

copyright © 2002-2016  Duraspace  Theme by @mire  厦门大学图书馆  
关于我们 | 相关政策