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    • Fe基合金钝化膜点蚀敏感性的电化学研究 

      李伟善; 陈红雨; 袁中直; 李红; 黄启明; 吕东生; LI Wei-shan; CHEN Hong-yu; YUAN Zhong-zhi; LI Hong; HUANG Qi-ming; LV Dong-sheng (厦门大学《电化学》编辑部, 2004-11-28)
       应用电位扫描、交流阻抗、电化学噪声等方法研究Fe及其合金在中性水溶液中钝化膜的形成过程、电子性质和点蚀敏感性以及不同微组织结构间的相互作用.结果表明:由Mott-Schot tky关系式确定钝化膜的电子性质仅限于较窄的低电位范围;在较高电位下,电容倒数与电位的线性关系当归因于钝化膜厚度的变化;反映钝化膜缺陷的电子性质与合金的点蚀敏感性有关,钝化膜电子供给体浓度越高,点蚀倾向越强。钝化膜的电子性质受钝化膜形成电位、钝化剂种类以及合金的微 ...