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    • 电化学沉积制备羟基磷灰石涂层及机理研究 

      胡皓冰; 林昌健; 陈菲; 胡仁; 郭明; HU Hao_bing; LIN Chang_jian; CHEN Fei; HU Ren; GUO Ming (厦门大学《电化学》编辑部, 2002-08-28)
      控制电沉积溶液中钙 /磷离子的浓度 ,在钛合金表面直接沉积羟基磷灰石 (HAP)陶瓷涂层 .XRD、SEM实验证实 ,制备的HAP晶粒完整 ,粒度均匀 .热力学计算表明HAP比TCP更易于生成 .文中讨论了羟基磷灰石 (HAP)涂层电沉积的机理 ,指出电沉积是一个二步过程 ,HAP的形成是从溶液中离子到固体的直接过程 ,没有前驱体的生成