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    • 电沉积铜钴纳米多层膜的机理研究 

      薛江云; 吴继勋; 杨德钧; Xue Jiangyun; Wu Jixun; Yang Dejun (厦门大学《电化学》编辑部, 1997-11-28)
      采用动电位扫描、循环伏安以及电化学交流阻抗等方法研究了铜钴纳米多层膜的电沉积机理.结果表明:在所研究的体系中,铜的沉积是扩散控制的可逆电极过程,而钴的沉积是首先形成Co(OH)ads的吸附中间产物,而后在电极上进一步还原为原子态.基于研究结果,提出了铜钴沉积的机制.