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    • 光电化学刻蚀n~+-Si的电致发光 

      李国铮; 张承乾; 杨秀梅; Li Guozheng; Zhang Chengqian; Yang Xiumei (厦门大学《电化学》编辑部, 1997-05-28)
      n+-Si在HF水溶液中经光电化学刻蚀形成的微米级多孔硅(PS)具有较好的电致发光(EL)性能,其发光光谱的波长范围约在500~800nm之间,阴极EL的波长和强度均随调制电位可逆变化;在酸性溶液中,发光强度较大,光淬灭过程也较中性溶液为慢.与n--Si的结果类似,PS的制备电位也决定性地影响着EL的强度.光淬灭前的伏安行为表明,除S2O2-3和H+还原外,可能还涉及PS表面化合物的转化.对能带图进行了讨论.