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    • 表面修饰模式对Nafion离子选择性影响及在VRFB中的应用 

      谭青龙; 王海宁; 卢善富; 梁大为; 武春晓; 相艳; Qinglong Tan; Haining Wang; Shanfu Lu; Dawei Liang; Chunxiao Wu; Yan Xiang (厦门大学《电化学》编辑部, 2017-08-25)
      本文采用壳聚糖-磷钨酸层对Nafion膜表面分别进行单面和双面修饰改性,研究了修饰模式对Nafion膜钒离子渗透率、电导率及离子选择性的影响. 结果表明,单面、双面修饰改性均会使Nafion膜的钒离子渗透率显著降低,最高降幅分别达到89.9% (单面修饰) 和92.7% (双面修饰);单面、双面修饰改性均会使Nafion膜的电导率下降,但存在明显差异,在相同修饰厚度条件下,双面修饰改性对Nafion膜电导率的影响比单面修饰改性更小。因此 ...