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    • 溅射功率对氧化锡薄膜结构和电化学性能的影响 

      蔡敏真; 宋杰; 吴启辉; 郑明森; 吴孙桃; 董全峰; CAI Min-zhen; SONG Jie; ZHENG Ming-sen; WU Qi-hui; WU Sun-tao; Dong Quan-Feng (厦门大学《电化学》编辑部, 2008-02-28)
      应用射频磁控溅射技术在硅基底上制备氧化锡薄膜,着重研究溅射功率对薄膜结构和电化学性能的影响.XRD,SEM分析及恒电流充放电测试表明,随着溅射功率的增大,薄膜的结晶程度提高;生长速率和晶粒尺寸增大;电池的贮锂容量减少,且首圈不可逆容量损失增大.溅射功率对薄膜的电化学性能有较大的影响.