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电催化界面和反应的电化学阻抗谱研究:经典永不褪色 

黄俊; HUANG Jun (厦门大学《电化学》编辑部, 2020-02-28)
本文章综述了电催化领域电化学阻抗谱(EIS)的相关研究. 首先概述了从二十世纪初到现在这一专业领域的发展历史. 然后介绍了电催化阻抗理论的几个里程碑. 其中,着重介绍了目前分析电催化EIS数据的主流模型—Dolin-Ershler模型. 之后,具体讨论了铂金单晶的双电层电容,特别是围绕这一基础课题的实验和理论上的挑战. 我们质疑采用Dolin-Ershler模型获取稀溶液中双电层电容的合理性. 因为在稀溶液中,双电层效应使得 ...

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HUANG Jun (1)
黄俊 (1)Subjectchemisorption (1)electrical double layer (1)
electrocatalysis (1)
electrochemical impedance (1)electrode kinetics (1)... View MoreDate Issued2020 (1)

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