硅基微纳器件加工技术研究
Fabrication of Silicon Based Micro and Nano Devices
Abstract
微纳米材料表现出许多传统材料所不具备的新特性,随着科学技术的不断进步,纳米技术已然成为了最热门的研究领域之一。集成度的提高依赖于微纳米器件的尺寸的进一步缩小,微纳米加工技术的提高是器件尺寸缩小的基础。微纳米加工技术主要可以归为三类:平面工艺、探针工艺以及模型工艺。平面工艺是指利用光刻将图形转移到光刻胶并采用刻蚀或者沉积技术等将图形转移到基片表面形成结构复杂的微纳米器件,主要工艺包括光刻、刻蚀、薄膜沉积等。探针工艺是不仅可以指采用传统探针(扫描电镜探针、原子力显微镜探针)在基片表面加工出微纳米结构,还包括采用聚焦离子束、激光束等在基片表面剥离形成微纳结构。模型工艺是指使用微纳米量级的模具复制出相... Micro-nano structures exhibited lots of novel characters, which traditional materialsdo not have. Nanotechnology has become one of the most popular research areas. The increase of integration level depends on the further miniaturization of the micro-nano devices, The improvement of micro-nano processing technology is the basis for device size reduction. Micro-nano processing technology can be clas...